"28 сентября 2021 года на торговой площадке «Росэлторг» появился
примечательный лот на 670 млн. рублей от Министерства промышленности и торговли Российской Федерации:
По сути, это исследование возможности разработки безмасочного рентгеновского нанолитографа для формирования наноструктур с предельными размерами объективно в районе 10 нм, меньше — вряд ли. Тут речь не про проектную технологическую норму а про разрешение литографии одиночной линии, а это немного разные вещи. Сроком завершения работ значится 30 ноября 2022 года.
29 октября 2021 года заказ достался
Национальному исследовательскому университету «Московский институт электронной техники», как единственному участнику. Этот университет основан в 1965 году и расположен в Зеленограде."
Этапы выполнения НИР
Разработка установки безмасочной рентгеновской нанолитографии на основе МЭМС (микроэлектромеханической системы) динамической маски для формирования наноструктур с размерами от 13 нм и ниже на базе синхротронного и/или плазменного источника.
1. Разработка, изготовление и экспериментальное исследование макетов МЭМС динамической маски: — в варианте конструкции с управлением коэффициентом пропускания рентгеновского излучения; — в варианте конструкции с управлением коэффициентом отражения рентгеновского излучения.
Результат: ЭКД (электронная конструкторская документация) и ЭТД (электронная технологическая документация) на макеты МЭМС динамической маски. Экспериментальные стенды. Макеты МЭМС динамической маски. Программы и методики экспериментальных исследований. Протоколы экспериментальных исследований.
2. Обоснование и разработка облика МЭМС динамической маски: — в варианте конструкции с управлением коэффициентом пропускания рентгеновского излучения; — в варианте конструкции с управлением коэффициентом отражения рентгеновского излучения.
Результат: ЭКД на МЭМС динамические маски.
3. Экспериментальные исследования образцов резистов, чувствительных к рентгеновскому излучению.
Результат: Программа и методика экспериментальных исследований. Протокол экспериментальных исследований.
4. Обоснование и разработка облика синхротронной станции, работающей в качестве источника рентгеновского излучения
Результат: ЭКД на синхротронную станцию, работающую в качестве источника рентгеновского излучения.
5. Обоснование и разработка облика плазменного источника рентгеновского излучения.
Результат: ЭКД на плазменный источник рентгеновского излучения.
7. Обоснование и разработка облика установки безмасочной рентгеновской нанолитографии в составе:
- источник рентгеновского излучения (синхротронный источник или плазменный источник);
- оптическая система, включая МЭМС динамическую маску (в варианте конструкции с управлением коэффициентом пропускания или в варианте конструкции с управлением коэффициентом отражения рентгеновского излучения);
- вакуумная система;
- система совмещения и позиционирования;
- система управления.
Результат: ЭКД на установку безмасочной рентгеновской нанолитографии.
8. Разработка ТЗ (технического задания) на ОКР (опытно-конструкторские работы).
Результат: ТЗ на ОКР!
Вывод и заключение
Таким образом мы видим, что у России есть цель не только создать собственную фабрику по производству чипов по нормам 28 нм и ниже, о чём уже неоднократно проскакивала информация, но и использовать для неё
собственное оборудование, если даже и не сразу, то чуть позже. А это значит, что в результате этого в руках у нас появятся технологии, которые мы сможем самостоятельно развивать дальше, достигая всё более тонких технологических норм независимо от внешнеполитических условий.
Да, безмасочная литография более медленная (производительность проектируемого литографа будет на несколько порядков ниже производительности промышленных степперов от ASML), и больше подходит для изготовления малых партий. Но малые партии на таком оборудовании делать на порядки дешевле, что сильно сэкономит ресурсы, например, разработчикам чипов, которым перед запуском в крупную серию обычно нужно делать пробные инженерные образцы своих чипов, и иногда не один раз.
Слайд из презентации Вакштейна М.С. (Фонд перспективных исследований)
С другой стороны, такое оборудование можно поставить каждому разработчику чипов или же консолидировать большое количество таких станков на одной фабрике для относительно крупносерийного производства. В любом случае, такое оборудование решает вопрос экономической целесообразности с относительно небольшими партиями процессоров для нужд одной страны, если не получится выйти на многомиллионный международный рынок. Кроме того, имея такое оборудование, можно весьма конкурентно выполнять внешние заказы из других стран на небольшие партии чипов. В общем, для России такое оборудование было бы очень кстати.
Вот такая примечательная информация оказалась у нас в свободном доступе. Жить становится всё интереснее и интереснее :-) В общем, наблюдаем за происходящем дальше, и держим руку на пульсе воскрешающейся российской микроэлектроники."